微电子工艺洁净实验室F102-F103

1、实验室建设情况

微电子工艺洁净实验室是2016年开始申请筹建的，位于东校园南实验楼F102-103，占地约700平方米。洁净间是指对空气洁净度、温度、湿度、压力、噪声等参数根据需要都进行控制的密闭性较好的空间。根据洁净间内空气中悬浮粒子数量，洁净间分成两部分，分别是千级和万级，千级洁净间主要从事微加工工艺实验，万级洁净间主要从事器件的测试实验。千级洁净实验室主要完成光刻、清洗、刻蚀、氧化、扩散和金属化等半导体工艺实验。实验室建设主要包括场地改造布置和实验仪器配置两部分。

辅助系统对实验室的运作起着至关重要的作用，包括空调及空气净化系统、纯水系统、冷却水系统、气体系统、尾气处理系统、消防安全系统。这些系统，按照规划设计，集中供给，不必重复建设，主管道都连接到天花夹层，仪器到位后，经过二次配连接，即可以使用所有的系统。气体系统建设包括普气系统、特气系统、压缩空气系统，气体统一放置于气体房，方便管理。

2、实验室仪器状况

学校投放近八百万，购置了两条半导体工艺生产线，具备了一系列微加工工艺设备，保证本科课程顺利进行，同时也为高年级本科生开设开放性实验，满足本科生科研项目的需求。目前实验室已配备了半导体工艺实验相关的仪器：100E光刻机、氧化扩散炉、甩干机、Stripper-100去胶机、RIE-100刻蚀机、Sputter-D100金属溅射台、PEVCD、ICP-PECVD、TALD-100A原子层沉积系统、F40薄膜分析仪、金相显微镜、SmartLab 加热板、匀胶机、wet-100清洗槽、通风柜及其通风系统、超声清洗机、手动探针测试台、双通道半导体参数测试仪、台阶仪等。